報告書番号

T95026

タイトル（和文）

Ｘ線反射による膜厚測定法の超電導薄膜への適用とその検証

タイトル（英文）

VERIFICATION OF THICKNESS MEASUREMENT OF SUPERCONDUCTING FILM BY X-RAY REFLECTION

概要 （図表や脚注は「報告書全文」に掲載しております）

電子ビーム同時蒸着法によりＹ系超電導膜を単結晶基板（ＳｒＴｉＯ３（１００），ＬａＡｌＯ３（１００），ＭｇＯ（１００））上に作製した。高速反射電子線回折（ＲＨＥＥＤ）で蒸着中に膜表面の構造を分析するとともに，ＲＨＥＥＤパターンの強度の振動を測定した。この強度の振動がＹ系超電導体の１分子の成長と対応している。作製した超電導膜のＸ線反射は微少角Ｘ線回折で測定した。このＸ線反射のデータを解析することにより，膜厚，表面粗さ，界面の粗さを決定した。１つの試料について，透過型電子顕微鏡を用いて膜断面の電子顕微鏡像観察し，膜厚を実測した。その結果，解析によって求まった膜厚と良く一致していたことより，Ｘ線反射の測定は膜厚が数百オングストローム以下の膜厚測定に有効であることを示した。

概要 （英文）

Y-BASED SUPERCONDUCTING FILMS WERE PREPARED ON SOME SINGLE-CRYSTAL SUBSTRATES(SRTIO3(100),LAALO3(100) AND MGO(100))BY CO-EVAPORATION DEPOSITION. WE ANALYZED THE FILM SURFACE STRUCTURE BY REFLECTION HIGH-ENERGY ELECTRON DIFFRACTION(RHEED) DURING DEPOSITION.WE ALSO MONITORED THE OSCILLATION OF RHEED SIGNAL INTENSITY TO IDENTIFY THE UNIT CELL LAYER-BY-LAYER. THE X-RAY REFLECTION DATA OF THE SUPERCONDUCTING FILMS WAS MEASURED BY GRAZING INCIDENCE X-RAY DIFFRACTION. THE FILM THICKNESS,SURFACE ROUGHNESS AND INTERFACE ROUGHNESS WERE DETERMINED FROM X-RAY REFLECTION DATA. THE ANALYZED FILM THICKNESS OF ONE SAMPLE USING X-RAY REFLECTION WAS READY CONSISTENT WITH THE THICKNESS MEASURED BY TRANSMISSION ELECTRON MICROGRAPH INDICATING THAT THE X-RAY REFLECTIVITY IS A USEFUL METHOD FOR DETERMINING FILM THICKNESS.

報告者

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